Spacer Engineered FinFET Architectures
High-Performance Digital Circuit Applications
This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device-circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
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Produktdetails
Weitere Autoren: Kaushik, Brajesh Kumar / Pal, Pankaj Kumar
- ISBN: 978-1-351-75104-9
- EAN: 9781351751049
- Produktnummer: 23901841
- Verlag: Taylor & Francis Ltd.
- Sprache: Englisch
- Erscheinungsjahr: 2017
- Seitenangabe: 154 S.
- Plattform: PDF
- Masse: 17'204 KB
- Abbildungen: 49 schwarz-weiße und 39 farbige Abbildungen, 14 schwarz-weiße Fotos, 3 schwarz-weiße Tabellen
Über den Autor
106749625
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