The Chemistry of Metal CVD
Für dünne, hochreine Metallfilme gibt es eine breite Palette von Anwendungen, zum Beispiel in der Elektronikindustrie, als Katalysatoren, als dekorative und Schutzbeschichtungen und in Gasdurchlässigen Membranen. Dieses Buch bietet eine aktuelle Übersicht über die chemische Abscheidung aus der Gasphase (Chemical Vapor Deposition) von verschiedenen Metallen aus Organometallvorläufern. In neun Kapiteln wird die chemische Abscheidung von Metallen wie Aluminium, Wolfram, Gold, Silber, Platin, Palladium, Nickel, sowie Kupfer aus Kupfer(I)- und Kupfer(II)-Verbindungen eingehend behandelt. Synthese und Eigenschaften der Vorläufer, Wachstumsgeschwind…
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Produktdetails
Weitere Autoren: Hampden-Smith, Mark J.
- ISBN: 978-3-527-61584-1
- EAN: 9783527615841
- Produktnummer: 13872666
- Verlag: Wiley-Vch
- Sprache: Englisch
- Erscheinungsjahr: 2008
- Seitenangabe: 562 S.
- Plattform: PDF
- Masse: 35'542 KB
Über den Autor
TOIVO T. KODAS and MARK HAMPDEN-SMITH are full professors in the Departments of Chemical Engineering and Chemistry, respectively, at the University of New Mexico in Albuquerque. They are also the founders of the companies Nanochem Research, Inc./ Superior MicroPowders, LLC that are currently commercializing several of the processes discussed in the book. Kodas and Hampden-Smith have previously collaborated to author and coedit Chemistry of Metals CVD, published by Wiley-VCH in 1994. Professor Hampden-Smith has coedited Chemistry of Advanced Materials: An Overview, a 1998 Wiley-VCH publication.
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