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Sheldon Tan

Long-Term Reliability of Nanometer VLSI Systems

Modeling, Analysis and Optimization

Buch

This book provides readers with a detailed reference regarding two of the most important long-term reliability and aging effects on nanometer integrated systems, electromigrations (EM) for interconnect and biased temperature instability (BTI) for CMOS devices.  The authors discuss in detail recent developments in the modeling, analysis and optimization of the reliability effects from EM and BTI induced failures at the circuit, architecture and system levels of abstraction.  Readers will benefit from a focus on topics such as recently developed, physics-based EM modeling, EM modeling for multi-segment wires, new EM-aware power grid analysis, a… Mehr

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Produktdetails


Weitere Autoren: Tahoori, Mehdi / Kim, Taeyoung / Wang, Shengcheng / Sun, Zeyu / Kiamehr, Saman
  • ISBN: 978-3-030-26171-9
  • EAN: 9783030261719
  • Produktnummer: 31943940
  • Verlag: Springer Nature EN
  • Sprache: Englisch
  • Erscheinungsjahr: 2019
  • Seitenangabe: 460 S.
  • Masse: H23.5 cm x B15.5 cm 0 g
  • Auflage: 1st ed. 2019
  • Abbildungen: Farb., s/w. Abb.
  • Sonstiges: Research

Über den Autor


99833288

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