Radio-Frequency Capacitive Discharges
Describes radio-frequency (rf) capacitive gas discharges of intermediate and low pressure and their application to gas laser excitation and to plasma processing. This work provides a treatment of the physics underlying rf discharges, techniques for generating such discharges, experimental methods and measurement techniques, and research results.
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Produktdetails
Weitere Autoren: Shneider, Mikhail N. / Yatsenko, Nikolai A.
- ISBN: 978-0-8493-8644-2
- EAN: 9780849386442
- Produktnummer: 23198921
- Verlag: Taylor and Francis
- Sprache: Englisch
- Erscheinungsjahr: 1995
- Seitenangabe: 304 S.
- Masse: H22.9 cm x B15.2 cm 750 g
- Abbildungen: Farb., s/w. Abb.
- Gewicht: 750
Über den Autor
Raizer, Yuri P.; Shneider, Mikhail N.; Yatsenko, Nikolai A.
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